净化车间的主要作用

最主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触的大气的洁净度以及温湿度,使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造,此空间我们称之为净化车间。按照国际惯例,无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。
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常见问题

Q净化车间中的1K级别是指什么标准?
A1K级别指每立方米中5μm及以下微尘数量控制在1000个以内,专门用于高级别芯片生产,其洁净度要求严格高于A级国际无尘标准。
Q净化车间的温湿度和压差一般控制在多少?
A净化车间通常将温度控制在22±1℃,相对湿度保持45%~65%,维持与室外10~15Pa的正压,并将送风口风速控制在0.25~0.45m/s。
Q光学产品生产为何必须使用净化车间?
A光学构造对尘粒极其敏感,行业按每立方米中大于设定粒径的粒子数量分级,如ISO 14644的ISO 5级要求≥0.5μm粒子不超过3520个。

  最主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触的大气的洁净度以及温湿度,使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造,此空间我们称之为净化车间。按照国际惯例,无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘,而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微,但是对于光学构造而言,哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响,所以在光学构造产品的生产上,净化车间无尘是必然的要求。
  净化车间每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下,就达到了国际无尘标准的A级。目前净化车间应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级,这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内,这也就是业内俗称的1K级别。

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1509    2020-03-22 00:00:00   
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